TecScan頂空分析儀
殘氧儀 光化學(xué)方法殘氧儀是奧地利兩位科學(xué)家發(fā)明的非接觸式頂空分析儀，無損殘氧儀，專門應(yīng)用在氣調(diào)包裝和制藥殘氧檢測行業(yè)，TecScan頂空分析儀
殘氧儀 光化學(xué)方法殘氧儀是MAP食品包裝廠和如大輸液，安剖瓶，抗生素，麻醉劑等藥品行業(yè)的殘氧檢測應(yīng)用。
TecScan頂空分析儀 殘氧儀 光化學(xué)方法殘氧儀
詳細介紹：TecScan頂空分析儀 殘氧儀 光化學(xué)方法殘氧儀是奧地利兩位科學(xué)家發(fā)明的非接觸式頂空分析儀，無損殘氧儀，專門應(yīng)用在氣調(diào)包裝和制藥殘氧檢測行業(yè)，TecScan頂空分析儀
殘氧儀 光化學(xué)方法殘氧儀是MAP食品包裝廠和如大輸液，安剖瓶，抗生素，麻醉劑等藥品行業(yè)的殘氧檢測應(yīng)用。
·
光化學(xué)方法的頂空分析儀不僅可以測量氣體中的氧氣含量，還以測量液體中的氧氣含量。
·
傳感器通過光電化學(xué)點的透明包裝
·
光電化學(xué)點可作為粘合劑或打印點
·
無需氣體抽出–
對于小氣量和液體非常適合
·
光電化學(xué)點工廠校準
·
自檢程序
·
測試時間 < 3s
· TecScan頂空分析儀 殘氧儀 光化學(xué)方法殘氧儀
· 
|
性能
|
氣體
|
液體
|
|
測試范圍
|
0.05 – 25% Vol.%
|
0 – 10
(20)mg/L
|
|
準確度:
|
± 0.02% oder
< ±2%
from value
|
± 0.05mg/l
oder < ±2%
from value
|
|
分辨率:
|
0.02%
|
<0.02mg/l
|
|
響應(yīng)時間:
|
< 1 s
|
Abh?ngig
von der Schutzklasse
typisch 3s – 30s
|
|
校準:
|
20° / 25° / 37°
(additional temperatures optional)
|
|
· 
·
TecScan頂空分析儀 殘氧儀 光化學(xué)方法殘氧儀應(yīng)用：
·
制藥與生物技術(shù)
?食品工業(yè)/地圖包裝
細菌學(xué).（病原體）微生物生長的檢測.生物化學(xué)和分子生物學(xué)的研究與開發(fā)
絕緣玻璃工業(yè)