污水處理氨氮超標，氨氮降解劑廠家希潔

污水處理氨氮超標，氨氮降解劑廠家希潔

電子廢水嚴重的污染的水資源及環境，有效治理芯片生產廢水已刻不容緩。芯片廢水主要有含氟和含氨廢水，今天小希主要跟大家講講含氨廢水的處理，一起來看看芯片污水氨氮降解方法有哪些吧~

一． 芯片廢水來源：

集成電路芯片制造生產工藝復雜，包括硅片清洗、化學氣相沉積、刻蝕等工序反復交叉，生產中使用了大量的化學試劑如HF、H2SO4、NH3?H2O等。

二． 芯片廢水分類

將生產廢水處理分為：含氨廢水處理系統、含氟廢水處理系統、CMP研磨廢水處理系統及酸堿廢水處理系統。

含氨廢水有兩部分，一部分是濃氨氮廢水，主要含氨氮和雙氧水，氨氮濃度達400～1200mg/L;另一部分是稀氨廢水，主要含氟化氨，氨氮濃度低于100mg/L。

芯片污水處理氨氮超標處理方法

高濃度氨氮廢水處理方法

生物法

傳統和新開發的脫氮工藝有A/O，兩段活性污泥法、強氧化好氧生物處理、短程硝化反硝化、超聲吹脫處理氨氮法方法等。

膜分離法

利用膜的選擇透過性進行氨氮脫除的一種方法。這種方法操作方便，氨氮回收率高，無二次污染。

沸石脫氨法

利用沸石中的陽離子與廢水中的NH4+進行交換以達到脫氮的目的。應用沸石脫氨法必須考慮沸石的再生問題，通常有再生液法和焚燒法。采用焚燒法時，產生的氨氣必須進行處理。

低濃度氨氮廢水處理方法

化學氧化法

利用強氧化劑將氨氮直接氧化成氮氣進行脫除的一種方法。對于工藝降不下來的低濃度氨氮有很好的去除作用。

投加希潔氨氮降解劑，這種方法的優勢有：

1、反應時間快速，只需5~6分鐘

2、投加具有強烈的靈活性，可以根據實際情況調整投加量，成本可控

3、環保無二次污染且去除率高達96%

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